题目
A.刻蚀
B.氧化
C.淀积
D.光刻
第1题
A.离子注入
B.刻蚀
C.扩散
第2题
A.二氧化硅
B.氮化硅
C.单晶硅
D.多晶硅
第3题
A.薄膜厚度
B.图形宽度
C.图形长度
D.图形间隔
第4题
A.干法刻蚀
B.湿法刻蚀
C.化学刻蚀
D.物理刻蚀
第5题
A.刻蚀速率
B.刻蚀均匀性
C.刻蚀选择比
D.刻蚀因子
第6题
A.电子
B.离子
C.原子
D.分子
第7题
A.单晶硅刻蚀
B.多晶硅刻蚀
C.二氧化硅刻蚀
D.氮化硅刻蚀
第8题
A.只属于物理性刻蚀
B.只属于化学性刻蚀
C.既有物理刻蚀又包含化学刻蚀
D.以上选项都不正确
第9题
A.铜
B.铝
C.金
D.二氧化硅
第10题
A.光刻胶
B.衬底
C.表面硅层
D.扩散区
E.源漏区
1. 搜题次数扣减规则:
备注:网站、APP、小程序均支持文字搜题、查看答案;语音搜题、单题拍照识别、整页拍照识别仅APP、小程序支持。
2. 使用语音搜索、拍照搜索等AI功能需安装APP(或打开微信小程序)。
3. 搜题卡过期将作废,不支持退款,请在有效期内使用完毕。
为了保护您的账号安全,请在“赏学吧”公众号进行验证,点击“官网服务”-“账号验证”后输入验证码“”完成验证,验证成功后方可继续查看答案!