题目
A.二氧化硅氮化硅
B.多晶硅硅化金属
C.单晶硅多晶硅
D.铝铜
E.铝硅
第1题
A.单晶硅刻蚀
B.多晶硅刻蚀
C.二氧化硅刻蚀
D.氮化硅刻蚀
第2题
A.二氧化硅
B.氮化硅
C.单晶硅
D.多晶硅
第3题
A.干法刻蚀
B.湿法刻蚀
C.化学刻蚀
D.物理刻蚀
第4题
A.刻蚀速率
B.刻蚀均匀性
C.刻蚀选择比
D.刻蚀因子
第5题
A.铜
B.铝
C.金
D.二氧化硅
第6题
A.只属于物理性刻蚀
B.只属于化学性刻蚀
C.既有物理刻蚀又包含化学刻蚀
D.以上选项都不正确
第7题
A.刻蚀
B.氧化
C.淀积
D.光刻
第8题
A.电子
B.离子
C.原子
D.分子
第9题
A.薄膜厚度
B.图形宽度
C.图形长度
D.图形间隔
第10题
A.离子注入
B.刻蚀
C.扩散
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