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题目

[主观题]

从能带结构上来看,砷化镓材料属于____________________带隙半导体。

答案
直接带隙
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第1题

下列半导体材料中,属于直接带隙半导体的是()。

A.硅

B.锗

C.砷化镓

D.磷化镓

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第2题

以下关于半导体能带特征描述正确的是()

A.室温下,硅的禁带宽度约为1.12eV,是直接带隙半导体

B.室温下,锗的禁带宽度约为0.67eV,是直接带隙半导体

C.室温下,砷化镓的禁带宽度约为1.12eV,是直接带隙半导体

D.室温下,硅的禁带宽度约为1.12eV,是间接带隙半导体

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第3题

室温时,下列半导体禁带宽度的大小顺序排列正确的是?

A.砷化镓>硅>锗

B.砷化镓>锗>硅

C.锗>砷化镓>硅

D.硅>锗>砷化镓

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第4题

根据能带结构的特点,可以将半导体分为直接带隙和()半导体。
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第5题

半导体材料硅、锗和砷化镓在室温下其杂质全部电离。
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第6题

同样条件下,半导体材料()反向电流密度变化最大。

A.硅

B.锗

C.砷化镓

D.锑化铟

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第7题

典型的本征半导体有

A.硅(Si)

B.锗(Ge)

C.砷化镓(GaAs)

D.铁(Fe)

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第8题

第三代半导体材料氮化镓具有较高的禁带宽度,又被称为________________半导体。
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第9题

砷化镓的禁带宽度比较大,制造的器件工作温度高。()
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第10题

砷化镓中因为Nc比Nv大得多,所以导带电子比价带空穴更容易发生简并化。
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