题目
A.半导体表面强反型时的栅极电压称为阈值电压
B.若金属相比半导体的功函数较小,二者功函数之差越大时,n沟增强型MOSFET的开启电压就越小
C.衬底掺杂浓度越高,沟道越容易进入强反型状态
D.氧化层厚度增加,阈值电压增加
第2题
A.靠近栅极界面的电荷比靠近半导体界面的电荷影响更大
B.靠近半导体界面的电荷比靠近栅极界面的电荷影响更大
C.靠近栅极界面的电荷与靠近半导体界面的电荷的影响相同
D.靠近氧化层中间位置的电荷影响更大
第5题
A.GCA成立条件是沿沟道方向(电流前进方向)电场强度远小于栅感应电场(半导体表面电场)
B.强反型时可以用GCA,但亚阈值时不能用GCA
C.用了GCA后,反型电荷面浓度与沟道中位置无关
D.用了GCA后,可以把二维问题转化为一维
第6题
A.跨导反映外加栅极电压控制漏-源电流的能力
B.跨导指的是栅极电压每变化1伏特所引起的栅-源电流的变化
C.跨导标志着MOS场效应管的电压放大能力
D.MOS管的跨导越大,电压增益也越大
第8题
A.空穴是多数载流子
B.在二极管中,P型半导体一侧接出引线后,是二极管的正极
C.在纯净的硅衬底上,掺杂五价元素,可形成P型半导体
D.在NPN型的晶体管中,基区正是由P型半导体构成
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