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制备TiO2等介质薄膜可以采用溅射方法。

答案

化学气相沉积法（CVD）

更多“制备TiO2等介质薄膜可以采用溅射方法。”相关的问题

第1题

下列关于传感器制造工艺说法错误的是

A.丝网印刷技术是一种厚膜制造工艺

B.陶瓷烧结是一种多晶体制备工艺

C.溅射技术可以在塑料板上制造传感器薄膜电路

D.真空蒸发技术可以在塑料板上制造传感器薄膜电路

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第2题

溅射适合用于合金薄膜沉积吗？

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第3题

poly-Si薄膜通常是采用什么方法制备的？

A.PECVD

B.LPCVD

C.APCVD

D.LCVD

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第4题

常见的制备单晶硅的方法有

A.直拉法（CZ）

B.悬浮区熔法（FZ）

C.蒸发

D.溅射

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第5题

薄膜材料的制备方法从具体方式上分为物理方法和化学方法两类。

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第6题

总结醛酮的制备方法，可以分别总结，如醛的制备方法，酮的制备方法。注意表明每种制备方法的特点如可以制备什么类型的醛酮，有什么优点和限制等。

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第7题

【单选题】下列不是脂质体的制备方法是（）

A.冷冻干燥法

B.逆向蒸发法

C.饱和水溶液法

D.薄膜分散发

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第8题

制备包合物的方法有（）

A.熔融法；

B.饱和水溶液法

C.溶剂法

D.薄膜分散法

E.研磨法

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第9题

直流溅射和射频溅射都可以用来制备金属薄膜。

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