题目
A.CMP
B.研磨
C.倒角
D.化学腐蚀
第1题
第2题
第3题
第4题
A.便于装配
B.去除毛剌和锐边
C.美观
D.保护零件表面不受损伤
第5题
第6题
A.有选择地形成被刻蚀图形的侧壁形状
B.在涂胶的硅片上正确地复制掩膜图形
C.变成刻蚀介质以形成一个凹槽
D.在大于3微米的情况下,混合发生化学作用与物理作用
第7题
A.去除杂质
B.定位
C.复定位
D.在玻璃泡外表面形成水合硅胶层
E.减小斜率
第8题
第9题
第10题
A.A
B.B
C.C
D.D
E.E
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