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[单选题]

隙卡沟的宽度

A.0.5mm

B.1mm

C.1mm-1.5mm

D.2.5mm

答案
沟底呈楔形
更多“隙卡沟的宽度”相关的问题

第1题

以下关于半导体能带特征描述正确的是()

A.室温下,硅的禁带宽度约为1.12eV,是直接带隙半导体

B.室温下,锗的禁带宽度约为0.67eV,是直接带隙半导体

C.室温下,砷化镓的禁带宽度约为1.12eV,是直接带隙半导体

D.室温下,硅的禁带宽度约为1.12eV,是间接带隙半导体

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第2题

粪尿沟的宽度至少有35cm宽
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第3题

版图中MOS管的沟道长由多晶硅栅的宽度确定
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第4题

滑刀式开沟器开出的种沟宽度较宽,种子横向分布均匀性较差。
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第5题

分散的地表径流集中呈小股流水,侵蚀能力变大,带走沟中母质,形成细沟,宽度和深度一般不超过50 cm,可通过耕作修复。
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第6题

关于脑蛛网膜下隙的叙述,下列哪项是正确的

A.经延髓中央管通脊髓蛛网膜下隙

B.位于蛛网膜与硬脑膜之间

C.伸入到脑的所有沟、裂内

D.除脑脊液外没有任何结构

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第7题

某管沟工程,设计管底垫层宽度为2000mm,开挖深度为2.00m,管径为1200mm,工作面宽为400mm,管道中心线长为180m,管沟土方工程计量计算正确的为()

A.432m3

B.576m3

C.720m3

D.1008m3

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第8题

正常情况下,牙尖交错牙合 时上下颌牙的对位接触可为

A.面的对位接触关系

B.尖与沟的对位接触关系

C.尖与尖的对位接触关系

D.尖与窝的对位接触关系

E.尖与隙的对位接触关系

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第9题

四尖型的下颌第二磨牙牙合面发育沟是

A.颊沟、近中沟、远中舌沟

B.颊沟、舌沟、近中沟、远中沟

C.颊沟、远中颊沟、舌沟、近中沟、远中沟

D.颊沟、远中沟、舌沟

E.舌沟、近中沟

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第10题

牙齦因失去食物按摩而出现了失用性萎缩是由于

A.牙冠轴面突度过大

B.牙冠轴面突度过小

C.牙冠轴面无突度

D.牙冠外展隙不明显

E.牙冠看面副沟排溢道不明显

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