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[单选题]

PFM基底冠的打磨处理中错误的是

A.用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物

B.用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物

C.打磨时用细砂针多方均匀的打磨出金瓷结合部要求的外形

D.禁止使用橡皮轮磨光

E.用50~100pm的氧化铝喷砂

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更多“PFM基底冠的打磨处理中错误的是A.用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物B.用碳化硅砂针磨除非贵金属表”相关的问题

第1题

金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度,因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量PFM基
底冠的打磨处理中错误的是A、用钨钢针磨除贵金属表面的氧化物

B、用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物

C、打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合.部要求的外形

D、禁止使用橡皮轮磨光

E、用50~100μm的氧化铝喷砂

PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是A、非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜

B、贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜

C、非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜

D、非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同

E、理想的氧化膜厚度为0.2~2μm

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第2题

PFM冠金属基底上瓷前用橡皮轮打磨可引起A.PFM冠金属基底变形,冠边缘不密合B.PFM冠变色C.PFM冠瓷

PFM冠金属基底上瓷前用橡皮轮打磨可引起

A.PFM冠金属基底变形,冠边缘不密合

B.PFM冠变色

C.PFM冠瓷裂

D.PFM冠金属基底不能产生均一厚度的氧化膜

E.PFM冠透明度下降

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第3题

下列选项不是PFM烧烤后在牙本质、切端层中出现气泡的可能原因()

A.瓷粉堆塑时混入气泡

B.烧烤时升温速度过快,抽真空速率过慢

C.烤瓷炉密封圈处有异物,影响真空度

D.基底冠表面多方向打磨

E.瓷粉中混入杂质

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第4题

下列选项不是PFM烧烤后在牙本质、切端层中出现气泡的可能原因的是A、瓷粉堆塑时混入气泡B、烧烤时升

下列选项不是PFM烧烤后在牙本质、切端层中出现气泡的可能原因的是

A、瓷粉堆塑时混入气泡

B、烧烤时升温速度过快,抽真空速率过慢

C、烤瓷炉密封圈处有异物,影响真空度

D、基底冠表面多方向打磨

E、瓷粉中混入杂质

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第5题

下列选项不是PFM烧烤后在牙本质、切端层中出现气泡的可能原因()。A、瓷粉堆塑时混入气泡B、烧烤时

下列选项不是PFM烧烤后在牙本质、切端层中出现气泡的可能原因()。

A、瓷粉堆塑时混入气泡

B、烧烤时升温速度过快,抽真空速率过慢

C、烤瓷炉密封圈处有异物,影响真空度

D、基底冠表面多方向打磨

E、瓷粉中混人杂质

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第6题

某技术员在进行金瓷修复体基底冠表面处理时,用铝砂喷砂去除金-瓷结合面的包埋料后,以下操作步骤错误的是()

A.用碳化硅磨除非贵金属基底金-瓷结合面的氧化物

B.用钨刚钻磨除贵金属表面的氧化物

C.一个方向均匀打磨金属表面不合要求的外形

D.使用橡皮轮磨光金属表面

E.防止在除气及预氧化后用手接触金属表面

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第7题

某技术员在进行金瓷修复体基底冠表面处理时,用铝砂喷砂去除金-瓷结合面的包埋料后,以下操作步骤
错误的是

A、用碳化硅磨除非贵金属基底金-瓷结合面的氧化物

B、用钨钢钻磨除贵金属表面的氧化物

C、一个方向均匀打磨金属表面不合要求的外形

D、使用橡皮轮磨光金属表面

E、防止在除气及预氧化后用手接触金属表面

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第8题

某技术员在进行金瓷修复体基底冠表面处理时,用铝砂喷砂去除金一瓷结合面的包埋料后,以下哪一操作步骤是错误的

A、用碳化硅磨除非贵金属基底金-瓷结合面的氧化物

B、用钨刚钻磨除贵金属表面的氧化物

C、一个方向均匀打磨金属表面不合要求的外形

D、使用橡皮轮磨光金属表面

E、防止在除气及预氧化后用手接触金属表面

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第9题

某技术员在进行金瓷修复体基底冠表面处理时,用铝砂喷砂去除金-瓷结合面的包埋料后,以下哪一操作
步骤是错误的

A、用碳化硅磨除非贵金属基底金-瓷结合面的氧化物

B、用钨刚钻磨除贵金属表面的氧化物

C、一个方向均匀打磨金属表面不合要求的外形

D、使用橡皮轮磨光金属表面

E、防止在除气及预氧化后用手接触金属表面

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第10题

PFM冠牙本质、切端层出现一小气泡的最佳处理方法A、从基底冠开始,重新制作B、去除整个瓷面,基底冠处

PFM冠牙本质、切端层出现一小气泡的最佳处理方法

A、从基底冠开始,重新制作

B、去除整个瓷面,基底冠处理后重新上瓷

C、切瓷,清洁后重新构筑体瓷、切瓷

D、切瓷与修补瓷的混合瓷,进炉烧烤

E、增高温度,再进炉烧烤

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