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[主观题]

集成电路布图设计权的申请必须在“申请日”之前已()。

A.完成设计

B.投入商业利用

C.为公众所知晓

D.广泛被宣传

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更多“集成电路布图设计权的申请必须在“申请日”之前已()。”相关的问题

第1题

关于布图设计权产生的形式条件,通常不包括_____。

A.该布图设计必须由个人对立创造

B.该布图设计必须投入商业实施

C.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中

D.受保护的布图设计必须办理登记手续

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第2题

下列选项中不能获得我国集成电路布图设计权的有:()。

A.布图设计不具有独创性

B.由常规设计组成的布图设计,但其组合作为整体具有独创性

C.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起3年后在中国申请

D.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用

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第3题

集成电路布图设计权的期限保护期为十年。()
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第4题

集成电路布图设计权赋予设计人对自己创作完成的半导体集成电路布图设计享有()权和()权。

A.制作

B.复制

C.商业利用

D.使用

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第5题

集成电路布图设计权通过向国务院专利行政部门登记产生。
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第6题

下列选项中不具有时间性的知识产权是()

A.商号权

B.商标权

C.邻接权

D.集成电路布图设计专有权

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第7题

下列属于知识产权的权利有()。

A.抵押权

B.植物新品种权

C.集成电路布图设计权

D.商业秘密权

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第8题

集成电路布图设计权的保护期限一般为()。

A.5年

B.10年

C.15年

D.20年

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第9题

在我国,集成电路布图设计权的行政处理部门是()。A、国家知识产权局B、国家工商行政管理局C、国家版

在我国,集成电路布图设计权的行政处理部门是()。

A、国家知识产权局

B、国家工商行政管理局

C、国家版权局

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第10题

集成电路布图设计权(名词解释)

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