更多“化学机械抛光技术中的抛光垫越粗糙,抛光速率越高,抛光图形的选择性越低,平坦化抛光的效果也越好,但过于粗糙,易产生划痕。”相关的问题
第1题
抛光过程中,对溶液温度的控制将会影响抛光效果。
点击查看答案
第2题
抛光垫要经常更换,否则表面太光滑,磨除速率会降低。
点击查看答案
第3题
抛光时采用的羊毛轮研磨力较强,一般用于()。
点击查看答案
第5题
抛光质量要求:抛光后的板件表面具有镜面般光泽,可以有目视可见抛光纹路,不能有露尘、皱皮、鼓泡等现象,抛光后余蜡须抹净。
点击查看答案
第6题
电解抛光不宜用于具有成分偏析、夹杂物的试样的抛光。
点击查看答案
第7题
气相外延生长硅需要进行抛光,常用的抛光物质是: 。
点击查看答案
第8题
能提高工件尺寸和形状精度,但不能提高位置精度的精密加工方法有()。
A.珩磨、研磨
B.研磨、抛光
C.抛光、超精加工
D.珩磨
点击查看答案
第9题
金银器的制作工艺,包括___、____、____、____和____等多种技术。(ABCDE) A.浇铸 B.焊接 C.切割D.抛光E.刻凿
点击查看答案
第10题
玉雕中的差异抛光可以突出玉石的质感。
点击查看答案