16、二次离子质谱确定的是_______

A.二次离子质谱技术

B.解吸附电喷雾电离技术

C.基质辅助激光解吸电离技术

D.化学电离技术

A.含偶数个氮原子的化合物对应的分子离子峰是奇数。

B.位于质谱谱图的最左边的离子峰簇强度比存在M+2：M=1：1的关系，可能存在一个溴。

C.质谱图最左边的离子峰是分子离子峰。

D.亚稳离子是在离子源内产生的质荷比不是整数的碎片离子。

A.分子离子

B.碎片离子

C.同位素离子

D.亚稳离子

A.分子离子

B.同位素离子

C.碎片离子

D.重排离子

A.分子离子峰

B.质荷比最大的峰

C.奇电子离子峰

D.强度最大的离子峰

A.一定是奇电子离子峰

B.强度最小的离子峰

C.质荷比最小的峰

D.强度最大的离子峰