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1.什么是掩膜版？掩膜版上的图形按照功能可以分成哪几类，并加以解释

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更多“1.什么是掩膜版？掩膜版上的图形按照功能可以分成哪几类，并加以解释”相关的问题

第1题

光刻时需要多片掩膜版，每一掩膜版的图形都需要进行

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第2题

在集成电路中，将掩膜版上的图形转移到光刻胶上的图形化工艺是

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第3题

1. 在集成电路中，将掩膜版上的图形转移到光刻胶上的图形化工艺是。

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第4题

掩膜版和光刻胶之间留有一定的缝隙用于提高掩膜版的使用寿命，该曝光方式是

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第5题

负性光刻后，与掩膜版上图形相同的图形复制到硅片表面。

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第6题

负性光刻后，与掩膜版上图形相同的图形复制到硅片表面。

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第7题

供IC制造工艺中使用的光刻掩膜版的图形，称为（）。

A.原理图

B.版图

C.工艺图

D.工艺文件

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第8题

光刻工艺的三要素是

A.光刻胶

B.曝光机

C.掩膜版

D.显影液

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第9题

接触式光刻机容易导致掩膜版损坏，但可一次完成曝光。

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第10题

利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中，掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉。

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