更多“离子注入过程中,离子穿入硅片的总距离,称为”相关的问题
第1题
在钛合金航空发动机叶片上镀贵金属涂层,选用哪类离子束加工方法?
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第2题
将曝光后的硅片放入某种化学溶液后,部分光刻胶去除,该工序称为
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第3题
硅片制备过程中 常常采用的定向方法是 。
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第4题
由于衬底晶向排列比较规则,注入的离子没有与硅原子碰撞,穿入到硅衬底很深的位置的现象称
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第5题
清洗硅片的原则是去除硅片表面的杂质和沾污和
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第6题
硅片制造完成后,封装之前检验硅片上每个芯片是否合格的测试是
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第7题
刚体运动过程中,其上任一点到某一固定平面的距离始终保持不变,这种运动称为刚体的平面运动。()
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第8题
常见的辐射源有紫外线、()、α射线、β射线、γ射线、中子、激光和离子注入。
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第9题
离子注入的结深主要有注入的能量决定,杂质浓度分布是由剂量决定。
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第10题
离子注入后,晶格结构会产生损伤,因此需要进行__________工艺。
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