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[主观题]

晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有()。

晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有()。

A.除 去光刻胶中剩余的溶剂

B.增强光刻胶对晶片表面的附着力

C.提高光刻胶的抗刻蚀能力

D.有利于以后的去胶工序

E.减少光刻胶的缺陷

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更多“晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有()。”相关的问题

第1题

溴化钾在显影液中的作用是()。

A.加速显影作用

B.保护显影作用

C.抑制灰雾生成

D.坚膜作用

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第2题

在液膜分离的操作过程中,()主要起到稳定液膜的作用。

A.载体

B.表面活性剂

C.增强剂

D.膜溶剂

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第3题

在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。
在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,它的优点在于()。

A.CA光刻胶对深紫外光吸收小

B.CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化

C.CA光刻胶在显影液中的可溶性强

D.有较高的光敏度

E.有较高的对比度

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第4题

硅晶片上之所以可以产生薄膜,出始于布满在晶片表面的许多气体分子或其它粒子,它们主要是通过()到达晶片表面的。

A.粒子的扩散

B.化学反应

C.从气体源通过强迫性的对流传送

D.被表面吸附

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第5题

定影液中常用的坚膜剂是()。

A.亚硫酸钠

B.醋酸

C.海波

D.明矾

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第6题

车身金属表面经过表面预处理后,可提高表面的附着力。()
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第7题

扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散,改变了晶片(),所以晶片才能被人们所使用。
扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散,改变了晶片(),所以晶片才能被人们所使用。

A.内部的杂质分布

B.表面的杂质分布

C.整个晶体的杂质分布

D.内部的导电类型

E.表面的导电类型

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第8题

在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA的含义是()。

A.化学增强

B.化学减弱

C.厚度增加

D.厚度减少

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第9题

覆膜用黏合剂中溶剂的主要作用不包括()。

A.A. 降低黏合剂的黏度

B.B. 提高黏合剂的表面张力

C.C. 增加润湿性

D.D. 提高流变性

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第10题

增塑剂又称增韧剂、()。主要用于树脂涂料中,以克服涂膜的硬脆性,增加韧性和弹性,并能提高漆膜的附着力。

A.柔化剂

B.增强剂

C.柔滑剂

D.软化剂

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