面发育沟常跨过近中边缘嵴到达近中面的牙是（）。

B.

C.替代Ⅳ的牙

D.Ⅳ

E.

A.面近中边缘嵴

B.面远中边缘嵴

C.面近、远中边缘嵴

D.面近中边缘嵴和颊沟

E.面远中边缘嵴和颊沟

用滴蜡法恢复牙体形态时，先恢复

A、牙尖

B、近远中边缘峭

C、发育沟

D、三角嵴

E、颊舌边缘嵴

（牙合）面边缘嵴与发育沟呈“+”形的牙体是哪一牙

A.下颌第二磨牙

B.下颌第二乳磨牙

C.上颌第一磨牙

D.上颌第二磨牙

E.下颌第一磨牙

咬合面边缘嵴与发育沟呈一“田”字形的牙体是哪一牙

A、上颌第一磨牙

B、上颌第二磨牙

C、下颌第一磨牙

D、下颌第二磨牙

E、巨噬细胞

左下8铸造圈形卡环的猞支托位于 查看材料

A．

面近中边缘嵴

B．

面远中边缘嵴

C．

面近、远中边缘嵴

D．

面近中边缘嵴和颊沟

E．

面远中边缘嵴和颊沟

咬合面边缘嵴与发育沟呈“田”字形的牙体是

A.上颌第一磨牙

B.上颌第二磨牙

C.下颌第一磨牙

D.下颌第二磨牙

E.下颌第二乳磨牙

如果[*]设计圈形卡环，[*]支托应位于[*]面()

A．舌沟

B．颊沟

C．近、远中边缘嵴

D．远中边缘嵴

E．近中边缘嵴

A.近中边缘嵴

B.远中边缘嵴

C.颊侧边缘嵴

D.舌侧边缘嵴

E.各边缘嵴一样长

A.中切牙

B.尖牙

C.侧切牙

D.前磨牙

A.上颌第一前磨牙

B.上颌第二前磨牙

C.下颌第一前磨牙

D.下颌第二前磨牙

E.上颌第一、第二前磨牙