受保护的布图设计由布图设计权利人或者经其许可投放市场后，他人再次商业利用的，可以不经布图

A.必须经设计权利人许可，并且支付必要费用

B. 可以不经设计权利人许可，但是必须支付报酬

C. 经权利人许可后可以不支付必要费用

D. 可以不经布图设计权利人许可，也不向其支付报酬

A.可以不经布图设计权利人许可，并不向其支付报酬

B.必须得到布图设计权利人许可

C.必须向布图设计权利人支付报酬

D.可以不经布图设计权利人许可，但应向其支付报酬

A.为个人目的评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的

B.在依据前项评价、分析受保护的布图设计的基础上，创作出具有独创性的布图设计的

C.对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的

D.单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的

A.布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生

B.未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护

C.无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起10年后，不再受集成电路布图设计保护条例的保护

D.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记

A.将受保护的布图设计投入商业利用

B.将含有该集成电路的物品投入商业利用

C.对受保护的布图设计的全部进行复制

D.对受保护的布图设计的任何具有独创性的部分进行复制