题目
患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是
A、取下腭杆
B、腭杆组织面缓冲
C、腭杆组织面加自凝树脂重衬
D、不做任何处理
E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
第1题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是()。
A、取下腭杆
B、腭杆组织面缓冲
C、腭杆组织面加自凝树脂重衬
D、不做任何处理
E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
第2题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是
A、取下腭杆
B、腭杆组织面做缓冲
C、腭杆组织面加自凝树脂重衬
D、不做任何处理
E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
第3题
一患者上颌局部义齿修复。初戴时,发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是
A.不必处理
B.腭杆组织面加自凝树脂重衬
C.腭杆组织面缓冲
D.去除腭杆,让患者将义齿戴走
E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
第4题
A.不做处理,让患者将义齿戴走
B.腭杆组织面加自凝树脂重衬
C.腭杆组织面缓冲
D.取下腭杆
E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
第5题
一患者上颁局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是
A.取下腭杆
B.腭杆组织面加自凝树脂重衬
C.不做处理,让患者将义齿戴走
D.腭杆组织面缓冲
E.取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
第6题
A、不做处理,让患者把义齿戴走
B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
C、腭杆组织面缓冲
D、取下腭杆
E、取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
第7题
初戴上颌局部义齿时,如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm,处理方法是
A、不必处理
B、腭杆组织面加白凝树脂重衬
C、腭杆组织面缓冲
D、去腭杆,让患者戴走
E、取下腭杆,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
第8题
A.人工牙的排列
B.咬合是否稳定
C.覆(牙合)覆盖情况
D.义齿边缘伸展
E.以上都不对
第9题
女,71岁,初戴全口义齿时发现上颌义齿基托边缘未达到唇颊黏膜转折处,引起的主要不良后果是
A.唇颊黏膜疼痛
B.上颌义齿的固位力降低
C.患者感觉不舒服
D.上颌义齿翘动
E.基托外形不美观
第10题
A.基托伸展过长
B.印模不准
C.模型不准
D.基托变形
E.与基托组织面相对硬区未缓冲
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