备洞时洞侧壁的釉质壁必须与釉柱的方向 （)A、呈75度B、垂直C、平行D、呈30度E、呈60度

备洞时洞侧壁的釉质壁必须与釉柱的方向

A、呈75°

B、垂直

C、平行

D、呈30°

E、呈60°

牙体修复是一项生物性治疗技术，备洞时，洞侧壁的釉质壁必须与釉柱方向

A．垂直

B．平行

C．成角45°

D．成角60°

E．成角90°

有关釉柱的描述不包括

A、釉柱的排列方式可增强釉质的抗剪切强度

B、手术时若需劈裂釉质，施力方向必须尽量与釉柱的排列方向一致

C、根据现代观点，龋齿备洞时，可保留悬空的牙釉质

D、点隙裂沟封闭时，釉质表面酸蚀是重要步骤

E、对无釉柱釉质进行酸蚀时，须适当延长处理时间

邻面近龈处嵌体洞形制备下列错误的是

A．一般按箱状洞形制备

B．髓壁应达牙本质内

C．髓壁应平

D．龈、切、近中、远中四壁皆应平行于釉柱方向与就位道一致

E．最好在髓壁近远中端牙本质内各做一钉道

A．釉质浑浊症

B．平滑面釉质龋

C．Turner牙

D．窝沟釉质龋

E．龋白斑

Ⅴ类洞制备要点如下，除外

A．洞形约呈肾形，深度均匀

B．轴壁与牙面平行，略呈弧形

C．近、远中壁与釉柱方向一致

D．倒凹固位作于近远中线角处

E．洞壁与轴壁垂直，线角清晰

面近龈处嵌体洞形制备，下列错误的是

A、一般按箱状洞形制备

B、髓壁应达牙本质内

C、髓壁应平行

D、龈、切、近中、远中四壁皆应平行于釉柱方向与就位道一致

E、最好在髓壁近远中端牙本质内各做一针道

A.严格的抗力形

B.适当的固位形

C.底平壁直

D.与牙面外形一致

E.必须做鸠尾

Ⅴ类洞充填备洞后时，要求

A、严格的抗力形

B、适当的固位形

C、底平壁直

D、与牙面外形一致

E、必须做鸠尾

Ⅴ类洞充填备洞时，要求

A、严格的抗力形

B、必须做鸠尾

C、底平壁直

D、与牙面外形一致

E、适当的固位形