题目
A.X−R图可适用于非正态的过程
B.X−R有更高的检出力
C.X−R图作图更为简便
D.X−R图需要更少的样本含量
第3题
A.X−R图可适用于非正态的过程
B.X−R有更高的检出力
C.X−R图作图更为简便
D.X−R图需要更少的样本含量
第4题
A.变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用SPC
B.其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差(I-MR)控制图即可
C.求出各小时芯片镀膜厚度之均值,对之绘制单值一移动极差(X-MR)控制图外,再绘制各小时的极差(R)控制图,三张控制图同时使用即可控制过程
D.解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图
第5题
A.Xbar−R控制图
B.X−S控制图
C.单值移动极差控制图。
D.C图或U图。
第7题
A.变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用 SPC
B.其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差(X一 MR)控制图即可
C.求出各小时芯片镀膜厚度之均值,对之绘制单值一移动极差(X 一八妞)控制图外,再绘制各小时的极差(R)控制图,三张控制图同时使用即可控制过程
D.解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图
第8题
A.变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用SPC;
B.其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差(X一MR)控制图即可;
C.求出各小时芯片镀膜厚度之均值,对之绘制单值一移动极差(X一八妞)控制图外,再绘制各小时的极差(R)控制图,三张控制图同时使用即可控制过程;
D.解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图;
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