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X−R控制图比X-MR(单值移动极差)控制图应用更为普遍的原因在于:()

A.X−R图可适用于非正态的过程

B.X−R有更高的检出力

C.X−R图作图更为简便

D.X−R图需要更少的样本含量

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更多“X−R控制图比X-MR(单值移动极差)控制图应用更为普遍的原因在于:()”相关的问题

第1题

XR控制图比X-MR(单值移动极差)控制图应用更为普遍的原因在于()

A.XR图可适用于非正态的过程

B.XR有更高的检出力

C.XR图作图更为简便

D.XR图需要更少的样本含量

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第2题

以下不属于计量型控制图的是()

A.X-R均值和极差图

B.X-δ均值和标准差图

C.X-MR单值移动极差图

D.np控制图

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第3题

X−R控制图比I-MR(单值移动极差)控制图应用更为普遍的原因在于:()。

A.X−R图可适用于非正态的过程

B.X−R有更高的检出力

C.X−R图作图更为简便

D.X−R图需要更少的样本含量

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第4题

芯片镀膜生产车间每小时抽5片芯片测量其镀膜的厚度,共检测了48小时,获得240个数据。经趋势图分析发现,各小时5片镀膜厚度之均值大体是稳定的,数据也服从正态分布。但发现各小时内的差异较小,但各小时间差异较大。六西格玛团队对如何进行SPC(统计过程分析)发生了分歧。正确的意见是:()

A.变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用SPC

B.其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差(I-MR)控制图即可

C.求出各小时芯片镀膜厚度之均值,对之绘制单值一移动极差(X-MR)控制图外,再绘制各小时的极差(R)控制图,三张控制图同时使用即可控制过程

D.解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图

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第5题

在为芯片镀膜的生产过程中,膜厚是关键尺寸。为了监控镀膜的厚度,每间隔1小时在生产线上终端抽取1片芯片,每片测量3行3列共9个固定位置处的厚度并作为一个子组数据,希望建立相应有效的控制图,最佳的选择是:()。

A.Xbar−R控制图

B.X−S控制图

C.单值移动极差控制图。

D.C图或U图。

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第6题

均值-极差控制图比单值移动极差控制图应用更为普遍,那个不属于其中的原因:()

A.非正态的过程也可能适用

B.有更高的检出力

C.需要更少的样本量

D.分成组内和组间两个控制图

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第7题

芯片镀膜生产车间每小时抽5片芯片测量其镀膜的厚度,共检测了48小时,获得240个数据。经趋势图分析发现,各小时5片镀膜厚度之均值大体是稳定的,数据也服从正态分布。但发现各小时内的差异较小,但各小时间差异较大。六西格玛团队对如何进行SPC(统计过程分析)发生了分歧。正确的意见是()

A.变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用 SPC

B.其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差(X一 MR)控制图即可

C.求出各小时芯片镀膜厚度之均值,对之绘制单值一移动极差(X 一八妞)控制图外,再绘制各小时的极差(R)控制图,三张控制图同时使用即可控制过程

D.解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图

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第8题

芯片镀膜生产车间每小时抽5片芯片测量其镀膜的厚度,共检测了48小时,获得240个数据。经趋势图分析发现,各小时5片镀膜厚度之均值大体是稳定的,数据也服从正态分布。但发现各小时内的差异较小,但各小时间差异较大。六西格玛团队对如何进行SPC(统计过程分析)发生了分歧。正确的意见是:()。

A.变异来源不仅包含随机误差。此时,必须等待清除组间变异变大的情况后,才能使用SPC;

B.其实只要将每小时芯片镀膜厚度之均值求出,对48个数据绘制单值一移动极差(X一MR)控制图即可;

C.求出各小时芯片镀膜厚度之均值,对之绘制单值一移动极差(X一八妞)控制图外,再绘制各小时的极差(R)控制图,三张控制图同时使用即可控制过程;

D.解决此类问题的最好方法是使用EWMA控制图;

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第9题

I-MR控制图的中文名称是()

A.均值-极差控制图

B.均值-标准差控制图

C.单值-移动极差控制图

D.不合格率控制图

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第10题

5-常规控制图包括()

A.均值-极差控制图

B.单值-移动极差控制图

C.P图

D.预控制图

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