一患者上颌局部义齿修复。初戴时，发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是A．不必处理B．腭杆组织

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是

A、取下腭杆

B、腭杆组织面做缓冲

C、腭杆组织面加自凝树脂重衬

D、不做任何处理

E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是()。

A、取下腭杆

B、腭杆组织面缓冲

C、腭杆组织面加自凝树脂重衬

D、不做任何处理

E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

A.不做处理，让患者将义齿戴走

B.腭杆组织面加自凝树脂重衬

C.腭杆组织面缓冲

D.取下腭杆

E.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

A、取下腭杆

B、腭杆组织面缓冲

C、腭杆组织面加自凝树脂重衬

D、不做任何处理

E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

一患者上颁局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是

A．取下腭杆

B．腭杆组织面加自凝树脂重衬

C．不做处理，让患者将义齿戴走

D．腭杆组织面缓冲

E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

A、不做处理，让患者把义齿戴走

B、腭杆组织面加自凝树脂重衬

C、腭杆组织面缓冲

D、取下腭杆

E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

A、不必处理

B、腭杆组织面加白凝树脂重衬

C、腭杆组织面缓冲

D、去腭杆，让患者戴走

E、取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

A.磨除改卡环臂，义齿就位后取模，重新弯制卡环

B.调磨基牙相对应的部位，使义齿就位

C.缓冲卡环体，使义齿就位

D.除去颊侧卡环臂

E.基托组织面重衬

A.磨除改卡环臂，义齿就位后取模，重新弯制卡环

B.调磨基牙相对应的部位，使义齿就位

C.缓冲卡环体，使义齿就位

D.除去颊侧卡环臂

E.基托组织面重衬

A．去除颊侧卡环臂

B．调整卡环体的位置

C．调磨基牙相对应的颊轴角处

D．缓冲卡环体

E．游离端基托组织面重衬